教育目的利用
ナノ材料マイクロデバイス研究センターでは、大阪工業大学大学院工学研究科の大学院生および工学部の学部学生に対するハイテク教育の一端をクリーンルームを利用した学生実験を実施することにより担っています。
現在は、大学院工学研究科の大学院生および工学部の電気電子システム工学科3年次生、電子情報システム工学科2年次生に対し、以下のような内容で学生実験を実施しています。
工学部の実験では、ティーチングアシスタントを導入し、細かな指導を行っています。
企業における開発実務担当者に要求される幅広い実務能力のうち、ハイテク大型機器を用いた材料・デバイス分野の実験・解析能力と、これによって明らかにした技術的知見を特許として出願・維持していく能力を、講義と実験実習・演習を組み合わせた少人数教育で養成します。工学分野では、主に半導体薄膜に対して、X線回折装置を用いた構造評価と解析、電子顕微鏡を用いた表面観察と組成分析、フォトルミネッセンス装置を用いた発光特性の評価と解析、Hall測定装置を用いた電気的特性評価と解析を行います。知財分野では、知的財産の保護の仕組み、特許出願・権利取得、特許権の効果等を学び、特許情報プラットフォームを利用した特許文献検索や特許明細書の作成を行います。
導体（GaAs）に金属（Au）を蒸着し、ショットキーダイオードを作製する。ダイオードの作製を通して蒸着装置の使用法を学び、クリーンルーム作業を体験する。作製したダイオードの電流・電圧特性および電圧・容量特性を測定する。
衛星放送に利用されている、超低雑音トランジスタのゲート作製プロセスを実習し、トランジスタ特性の測定およびその解析を行う。
ガラス基板上に種々の厚さの金属薄膜を真空蒸着法で作製し、四端子法で測定した抵抗とスタイラス法で測定した膜厚の関係を調べます。また、ルツボ（蒸着源）と基板の幾何学的配置から予想される膜厚分布を実験値と比較します。
クリーンルームの構造を理解しパーティクルカウンターでクリーン度を計測します。半導体結晶の作製、加工、評価装置を見学し、実物によるシリコン集積回路（IC）製造工程を学習します。
