去る2018年9月17日(月)〜20日(木)に米国カリフォルニア州モントレ— カンファレンスセンターで開催された、SPIE Photomask Technology + EUV Lithography：（通称BACUS会議）で、当研究科の小寺研究室に所属する大学院工学研究科電気電子･機械工学専攻 電気電子工学コース1年生の伊藤優花さんが招待講演を行いました。この会議での招待講演者は23名いましたが、学生で招待講演を行ったのは伊藤さん1人だけでした。
発表題目は「Simulation of fogging electron trajectories in a scanning electron microscope」で、日本語訳は「走査電子顕微鏡内のフォギング電子軌道のシミュレーション」です。
今回招待講演をすることになった理由は、この国際会議に先立ち、4月18日〜20日に開催されたフォトマスクジャパン国際会議（パシフィコ横浜）で最優秀学会ポスター賞を受賞し、その栄誉として当会議の招待講演に推薦されました。当BACUS会議出席に向けて、フォトマスクジャパン学会から出張に係る旅費として20万円、海外旅行保険費、会議参加費の補助を受けました。
招待講演では、口頭発表20分の時間枠が与えられ、100人を超える聴衆の面前で講演発表を行いました。当学会は最先端の半導体集積回路を製造する際に必須のフォトマスク技術の専門家が世界から集まる学会で、半導体関係で企業の生き残りをかけた技術開発競争の真っただ中での情報交換の場でした。
伊藤さんはBACUS会議の前週に、オーストラリア シドニーで開催された国際顕微鏡学会でも論文発表を行いました。大学院在学期間中にさらに研鑽をつんで業績を上げてくれることを期待します。
発表題目は「Simulation of fogging electron trajectories in a scanning electron microscope」で、日本語訳は「走査電子顕微鏡内のフォギング電子軌道のシミュレーション」です。
今回招待講演をすることになった理由は、この国際会議に先立ち、4月18日〜20日に開催されたフォトマスクジャパン国際会議（パシフィコ横浜）で最優秀学会ポスター賞を受賞し、その栄誉として当会議の招待講演に推薦されました。当BACUS会議出席に向けて、フォトマスクジャパン学会から出張に係る旅費として20万円、海外旅行保険費、会議参加費の補助を受けました。
招待講演では、口頭発表20分の時間枠が与えられ、100人を超える聴衆の面前で講演発表を行いました。当学会は最先端の半導体集積回路を製造する際に必須のフォトマスク技術の専門家が世界から集まる学会で、半導体関係で企業の生き残りをかけた技術開発競争の真っただ中での情報交換の場でした。
伊藤さんはBACUS会議の前週に、オーストラリア シドニーで開催された国際顕微鏡学会でも論文発表を行いました。大学院在学期間中にさらに研鑽をつんで業績を上げてくれることを期待します。
