去る2018年4月18日(水)〜20日(金)にパシフィコ横浜アネックスホールで開催された、(PMJ：フォトマスクジャパン)/ SPIE主催、BACUS/ EMLC協賛の国際会議であるPhotomask Japan 2018にて、小寺教授の研究室に所属する大学院工学研究科電気電子･機械工学専攻 電気電子コース博士前期課程1年生の伊藤優花さんが最優秀学会ポスター発表賞（Best Academia Poster Presentation）を受賞しました。
発表題目は「Simulation of fogging electron trajectories in a
scanning electron microscope」で、日本語訳は「走査電子顕微鏡内のフォギング電子軌道のシミュレーション」です。
最先端ICを製造する際に必須であるフォトマスクの最先端・超微細加工技術の専門家が集まる会議で発表した内容が評価されました。学会名、発表題目、共著者の彫り込まれたクリスタルトロフィが副賞として贈られました。
この受賞により、伊藤さんは本年9月17日〜20日に米国カリフォルニア州モントレー カンファレンスセンターで開催されるSPIE Photomask Technology + EUV Lithography：（通称BACUS会議）の学会での招待講演（口頭発表20分）に推薦されました。出張する伊藤さんにはフォトマスクジャパン学会から、出張に係る旅費として20万円、海外旅行保険、会議参加費の補助を受けました。
伊藤さんはBACUS会議の前週に、オーストラリア シドニーで開催される国際顕微鏡学会でも論文発表する予定です。大学院在学期間中にさらに研鑽をつんで業績を上げてくれることを期待します。
発表題目は「Simulation of fogging electron trajectories in a
scanning electron microscope」で、日本語訳は「走査電子顕微鏡内のフォギング電子軌道のシミュレーション」です。
最先端ICを製造する際に必須であるフォトマスクの最先端・超微細加工技術の専門家が集まる会議で発表した内容が評価されました。学会名、発表題目、共著者の彫り込まれたクリスタルトロフィが副賞として贈られました。
この受賞により、伊藤さんは本年9月17日〜20日に米国カリフォルニア州モントレー カンファレンスセンターで開催されるSPIE Photomask Technology + EUV Lithography：（通称BACUS会議）の学会での招待講演（口頭発表20分）に推薦されました。出張する伊藤さんにはフォトマスクジャパン学会から、出張に係る旅費として20万円、海外旅行保険、会議参加費の補助を受けました。
伊藤さんはBACUS会議の前週に、オーストラリア シドニーで開催される国際顕微鏡学会でも論文発表する予定です。大学院在学期間中にさらに研鑽をつんで業績を上げてくれることを期待します。
